发明名称 可自成像成膜聚合物、其组合物以及由其制得的器件和结构
摘要 聚合物和包含此种聚合物的形成可自成像膜的组合物,此种聚合物包含具有至少一个酚类官能团的降冰片烯型重复单元和马来酸酐型重复单元,其可以配制为正色调成像或负色调成像。据此形成的膜可用作微电子器件,例如半导体,和光电子器件制造中的可自成像层。
申请公布号 CN103370347B 申请公布日期 2016.08.10
申请号 CN201180056522.8 申请日期 2011.11.23
申请人 普罗米鲁斯有限责任公司;住友电木株式会社 发明人 大治;阳雄池田;L·F·罗德斯;P·坎达纳拉彻驰
分类号 C08F222/06(2006.01)I;C08F220/52(2006.01)I;C08F210/14(2006.01)I;G03F7/038(2006.01)I 主分类号 C08F222/06(2006.01)I
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人 杨立芳
主权项 成膜的聚合物组合物,包含:聚合物,所述聚合物包含由式IIIb表示的第一重复单元:<img file="FDA0000933657920000011.GIF" wi="573" he="246" />其中Z是O或NR<sup>5</sup>,其中R<sup>5</sup>是氢或R<sup>*</sup>‑OH,其中R<sup>*</sup>是烷基、芳基或烷芳基连接基,和所述聚合物包含衍生自选自以下结构通式的酚类降冰片烯化合物的酚类官能化单体的酚类官能化降冰片烯第二重复单元:<img file="FDA0000933657920000012.GIF" wi="1309" he="1458" /><img file="FDA0000933657920000021.GIF" wi="1585" he="2558" />其中n是1‑5的整数;W是H或烷基或醚基;每个R<sup>10</sup>独立地选自H、单价烃、烷氧基、芳氧基和吸电子基团;m是0‑5的整数;每个n”独立地是0‑4的整数;所述聚合物由所述酚类官能化降冰片烯单体与式II表示的单体反应制备:<img file="FDA0000933657920000031.GIF" wi="651" he="219" />其中Z如上定义,该反应的特征在于聚合物中由式IIIb表示的第一重复单元的量等于引入聚合物中的式II单体的量;浇铸溶剂;和与一种或多种交联性添加剂结合的光活性化合物或光酸产生剂。
地址 美国俄亥俄