发明名称 一种接触钝化晶体硅太阳能电池的结构及制备方法
摘要 本发明属于太阳能电池技术领域,涉及一种接触钝化晶体硅太阳能电池的结构和制备方法。将N或P型晶体硅片双面抛光,之后双面制备氧化硅层或者是氧化铝层;然后双面制备金或者银纳米粒子,然后背面制备非晶硅的N(P)型层,受光面制备准晶态P(N)型硅薄膜,P(N)型硅薄膜上制备70nm厚的ITO薄膜和栅线电极,背面制备银薄膜。本发明的益处是:钝化膜包裹的金属纳米粒子形成载流子隧穿通道的作用,提高了载流子隧穿效果,可以整体提高晶体硅太阳电池的填充因子,同时金属纳米粒子的表面等离子体效应起到了减反射的效果。
申请公布号 CN105845761A 申请公布日期 2016.08.10
申请号 CN201610278513.8 申请日期 2016.04.29
申请人 常州大学;江苏大学 发明人 丁建宁;袁宁一;王书博;程广贵
分类号 H01L31/042(2014.01)I;H01L31/18(2006.01)I;H01L31/0216(2014.01)I 主分类号 H01L31/042(2014.01)I
代理机构 南京知识律师事务所 32207 代理人 卢亚丽
主权项 一种接触钝化晶体硅太阳能电池的结构,包括作为基底的P型硅片或N型硅片,其特征在于:以P型硅片或N型硅片作为中间层,在受光面方向从下至上依次为介质膜、金属纳米粒子、N型准晶态硅薄膜或P型准晶态硅薄膜、ITO薄膜和ITO薄膜上的栅线电极;在背面方向从上至下依次为介质膜、金属纳米粒子、P型非晶硅薄膜或N型非晶硅薄膜、银薄膜。
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