发明名称 |
一种平面分离双栅薄膜晶体管 |
摘要 |
本实用新型属于半导体技术领域,公开了一种平面分离双栅薄膜晶体管。所述平面分离双栅薄膜晶体管,自下而上依次包括衬底、过渡层、栅电极层、绝缘栅介质层、半导体有源层、源电极/漏电极,所述源电极和漏电极相对设置于所述半导体有源层上方;所述栅电极层由两个栅电极组成,所述两个栅电极相对设置于过渡层的上方;所述栅电极与源电极/漏电极设置的方向不同。本实用新型调整两个栅极的偏压可使TFT器件呈现出不同的输出和转移特性;两个栅极可同时作为控制栅和信号栅使用,使电路得到简化,从而有效地拓展TFT的应用范围,有望解决阈值电压漂移、自动增益控制动态范围窄等问题。 |
申请公布号 |
CN205452294U |
申请公布日期 |
2016.08.10 |
申请号 |
CN201521083246.6 |
申请日期 |
2015.12.21 |
申请人 |
华南理工大学 |
发明人 |
刘玉荣;廖荣;姚若河 |
分类号 |
H01L29/786(2006.01)I;H01L21/34(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/786(2006.01)I |
代理机构 |
广州市华学知识产权代理有限公司 44245 |
代理人 |
罗观祥 |
主权项 |
一种平面分离双栅薄膜晶体管,其特征在于:自下而上依次包括衬底、过渡层、栅电极层、绝缘栅介质层、半导体有源层、源电极/漏电极,所述源电极和漏电极相对设置于所述半导体有源层上方;所述栅电极层由两个栅电极组成。 |
地址 |
511458 广东省广州市南沙区环市大道南路25号华工大广州产研院 |