发明名称 一种平面分离双栅薄膜晶体管
摘要 本实用新型属于半导体技术领域,公开了一种平面分离双栅薄膜晶体管。所述平面分离双栅薄膜晶体管,自下而上依次包括衬底、过渡层、栅电极层、绝缘栅介质层、半导体有源层、源电极/漏电极,所述源电极和漏电极相对设置于所述半导体有源层上方;所述栅电极层由两个栅电极组成,所述两个栅电极相对设置于过渡层的上方;所述栅电极与源电极/漏电极设置的方向不同。本实用新型调整两个栅极的偏压可使TFT器件呈现出不同的输出和转移特性;两个栅极可同时作为控制栅和信号栅使用,使电路得到简化,从而有效地拓展TFT的应用范围,有望解决阈值电压漂移、自动增益控制动态范围窄等问题。
申请公布号 CN205452294U 申请公布日期 2016.08.10
申请号 CN201521083246.6 申请日期 2015.12.21
申请人 华南理工大学 发明人 刘玉荣;廖荣;姚若河
分类号 H01L29/786(2006.01)I;H01L21/34(2006.01)I 主分类号 H01L29/786(2006.01)I
代理机构 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 代理人 罗观祥
主权项 一种平面分离双栅薄膜晶体管,其特征在于:自下而上依次包括衬底、过渡层、栅电极层、绝缘栅介质层、半导体有源层、源电极/漏电极,所述源电极和漏电极相对设置于所述半导体有源层上方;所述栅电极层由两个栅电极组成。
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