发明名称 |
光学膜的制造方法 |
摘要 |
本发明提供一种光学均一性及耐擦伤性优异的至少为2层构造的光学膜的制造方法。本发明的制造方法具有:在基材膜的一面上涂敷含有不具有反应性基团的氟系流平剂的第1涂敷液而形成第1功能层的第1涂敷工序、及在该第1功能层的表面涂敷第2涂敷液而形成第2功能层的第2涂敷工序,该氟系流平剂在涂布该第2涂敷液时偏在于该第1功能层表面,并在涂布该第2涂敷液后洗脱至该第2涂敷液中,偏在于形成的第2功能层表面。 |
申请公布号 |
CN103119480B |
申请公布日期 |
2016.08.10 |
申请号 |
CN201180045129.9 |
申请日期 |
2011.09.16 |
申请人 |
日东电工株式会社 |
发明人 |
西村明宪;泷田智仁;中村恒三;武本博之;渊田岳仁 |
分类号 |
G02B1/14(2015.01)I;G02B5/02(2006.01)I |
主分类号 |
G02B1/14(2015.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
王玉玲 |
主权项 |
一种光学膜的制造方法,其包括:在基材膜的一个面涂敷含有不具有反应性基团的氟系流平剂的第1涂敷液而形成第1功能层的第1涂敷步骤、及在该第1功能层的表面涂敷第2涂敷液而形成第2功能层的第2涂敷步骤,就该氟系流平剂而言,在涂布该第2涂敷液时偏在于该第1功能层表面,并在涂布该第2涂敷液后洗脱到该第2涂敷液中,而偏在于所形成的第2功能层表面,所述氟系流平剂的含量相对于所述第1涂敷液中的全部固态成分为0.05重量%~3重量%。 |
地址 |
日本大阪府 |