发明名称 光学膜的制造方法
摘要 本发明提供一种光学均一性及耐擦伤性优异的至少为2层构造的光学膜的制造方法。本发明的制造方法具有:在基材膜的一面上涂敷含有不具有反应性基团的氟系流平剂的第1涂敷液而形成第1功能层的第1涂敷工序、及在该第1功能层的表面涂敷第2涂敷液而形成第2功能层的第2涂敷工序,该氟系流平剂在涂布该第2涂敷液时偏在于该第1功能层表面,并在涂布该第2涂敷液后洗脱至该第2涂敷液中,偏在于形成的第2功能层表面。
申请公布号 CN103119480B 申请公布日期 2016.08.10
申请号 CN201180045129.9 申请日期 2011.09.16
申请人 日东电工株式会社 发明人 西村明宪;泷田智仁;中村恒三;武本博之;渊田岳仁
分类号 G02B1/14(2015.01)I;G02B5/02(2006.01)I 主分类号 G02B1/14(2015.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 王玉玲
主权项 一种光学膜的制造方法,其包括:在基材膜的一个面涂敷含有不具有反应性基团的氟系流平剂的第1涂敷液而形成第1功能层的第1涂敷步骤、及在该第1功能层的表面涂敷第2涂敷液而形成第2功能层的第2涂敷步骤,就该氟系流平剂而言,在涂布该第2涂敷液时偏在于该第1功能层表面,并在涂布该第2涂敷液后洗脱到该第2涂敷液中,而偏在于所形成的第2功能层表面,所述氟系流平剂的含量相对于所述第1涂敷液中的全部固态成分为0.05重量%~3重量%。
地址 日本大阪府