发明名称 具有空腔的半导体器件
摘要 本申请公开了一种具有空腔的半导体器件。半导体器件包括第一半导体晶片,该第一半导体晶片包括形成在第一半导体管芯中的空腔。第二半导体管芯在该空腔之上被键合到第一半导体管芯。第一晶体管包括形成在空腔之上的该第一晶体管的一部分。
申请公布号 CN105826383A 申请公布日期 2016.08.03
申请号 CN201511036214.5 申请日期 2015.12.16
申请人 长城半导体公司 发明人 P·M·谢伊
分类号 H01L29/78(2006.01)I;H01L21/336(2006.01)I 主分类号 H01L29/78(2006.01)I
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人 姬利永
主权项 一种制作半导体器件的方法,包括:提供第一半导体晶片;在所述第一半导体晶片中形成空腔;在所述空腔之上将第二半导体晶片键合到所述第一半导体晶片;以及形成晶体管,所述晶体管包括设置在所述空腔之上的所述晶体管的一部分。
地址 美国亚利桑那州
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