| 发明名称 | 太阳能电池的制造方法和制膜装置 | ||
| 摘要 | 一种太阳能电池的制造方法，其特征在于，对半导体基板，在电极形成工序之前实施退火工序。根据本发明，通过如上所述实施退火，能够不损害可靠性和外观，改善太阳能电池的电气特性。因此，可以广泛地利用于具有高电气特性和可靠性的太阳能电池的制造方法。 | ||
| 申请公布号 | CN103155163B | 申请公布日期 | 2016.08.03 |
| 申请号 | CN201180035025.X | 申请日期 | 2011.07.12 |
| 申请人 | 信越化学工业株式会社 | 发明人 | 三田怜;高桥光人;桥上洋;村上贵志;月形信太郎;渡部武纪;大塚宽之 |
| 分类号 | H01L31/0216(2014.01)I;H01L31/0224(2006.01)I;H01L31/068(2012.01)I | 主分类号 | H01L31/0216(2014.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 李英 |
| 主权项 | 一种太阳能电池的制造方法，其特征在于，包括以下工序：在半导体基板上形成防反射膜兼钝化膜，其中，所述防反射膜兼钝化膜是MgF<sub>2</sub>、SiO<sub>2</sub>、Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>、SiO、SiN、TiO<sub>2</sub>、Ta<sub>2</sub>O<sub>5</sub>、ZnS中的任一种或它们的叠层，然后对所述基板实施退火，其中于600℃以上1000℃以下、在N<sub>2</sub>气氛中实施所述退火工序，以及然后在所述基板上形成电极并对所述电极进行烧成。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||