发明名称 Semiconductor device and method for manufacturing the same
摘要 산화물 반도체를 사용한 박막 트랜지스터에 있어서, 전계 효과 이동도를 향상시키는 것을 과제의 하나로 한다. 또한, 박막 트랜지스터의 전계 효과 이동도를 향상시키더라도, 오프 전류의 증대를 억제하는 것을 과제의 하나로 한다. 산화물 반도체층을 사용한 박막 트랜지스터에 있어서, 산화물 반도체층과 게이트 절연층의 사이에, 상기 산화물 반도체층보다 도전율이 높고, 막 두께가 얇은 반도체층을 형성함으로써, 상기 박막 트랜지스터의 전계 효과 이동도를 향상시켜, 또한 오프 전류의 증대를 억제할 수 있다.
申请公布号 KR101645194(B1) 申请公布日期 2016.08.03
申请号 KR20090103983 申请日期 2009.10.30
申请人 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 发明人 아키모토, 겐고;사사키, 도시나리
分类号 G02F1/136;H01L29/786 主分类号 G02F1/136
代理机构 代理人
主权项
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