发明名称 用于半导体发光器件的接触
摘要 本发明的实施例包括一种半导体结构,该半导体结构包括布置在n型区(22)与p型区(26)之间的III族氮化物发光层(24)。布置在p型区上的接触包括与p型区(26)直接接触的透明导电材料(28)、反射金属层(34)以及布置在透明导电层(28)与反射金属层(34)之间的透明绝缘材料(30)。在透明绝缘材料(30)中的多个开口(32)中,透明导电材料(28)与反射金属层直接接触。
申请公布号 CN102804417B 申请公布日期 2016.08.03
申请号 CN201080028617.4 申请日期 2010.05.21
申请人 飞利浦拉米尔德斯照明设备有限责任公司;皇家飞利浦电子股份有限公司 发明人 J.E.埃普勒;A.J.F.戴维德
分类号 H01L33/40(2006.01)I;H01L33/42(2006.01)I;H01S5/042(2006.01)I 主分类号 H01L33/40(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 李亚非;刘鹏
主权项 一种半导体发光器件,包括:半导体结构,其包括布置在n型区与p型区之间的III族氮化物发光层;接触,其布置在p型区上,该接触包括:与p型区直接接触的透明导电材料;反射金属层;布置在透明导电层与反射金属层之间的透明绝缘材料;以及透明绝缘材料中的多个开口,其中在所述多个开口中透明导电材料与反射金属层直接接触,其中开口延伸到透明导电材料中。
地址 美国加利福尼亚州