发明名称 一种氧化镓纳米线阵列及其制备方法
摘要 本发明涉及一种纳米线阵列及其制备方法,具体是指一种氧化镓纳米线阵列及其制备方法。本发明是通过射频磁控溅射技术在Si衬底上沉积一层金薄膜,然后将得到的金薄膜进行球化退火从而得到金颗粒,最后在金颗粒上生长Ga<sub>2</sub>O<sub>3</sub>纳米线阵列。本发明的优点是:所制备的Ga<sub>2</sub>O<sub>3</sub>纳米线阵列分布均匀,纳米线的长径比可控;另外,该制备方法具有工艺可控性强,操作简单,普适性好等特点,有望在半导体纳米线阵列器件中得到应用。
申请公布号 CN105826362A 申请公布日期 2016.08.03
申请号 CN201610143013.3 申请日期 2016.03.13
申请人 浙江理工大学 发明人 陈烈裕;钱银平;王坤;李小云;王顺利;李培刚
分类号 H01L29/24(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I;C23C14/16(2006.01)I;C23C14/08(2006.01)I;B82Y30/00(2011.01)I;B82Y40/00(2011.01)I 主分类号 H01L29/24(2006.01)I
代理机构 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人 郑海峰
主权项 一种氧化镓纳米线阵列,其特征在于由Ga<sub>2</sub>O<sub>3</sub>薄膜纳米线阵列、金纳米颗粒以及n型Si衬底组成。
地址 310018 浙江省杭州市下沙白杨街道2号大街5号