发明名称 硅酸镓镧压电晶体的制造方法及其制品
摘要 本发明涉及硅酸镓镧压电晶体的制造方法及其制品,所述方法采用坩埚提拉法生长晶体,包括:在接种工序中,将原料加热至熔化并在高于熔化温度80℃~140℃下保温使熔体稳定,并将籽晶在高于熔化温度10℃~30℃下接触熔体;旋转籽晶并开始提拉生长晶体,其中包括缩颈工序、扩肩工序、等径工序和收尾工序;以及在原位退火工序中,提拉晶体使晶体脱离熔体后保持位置不变并旋转晶体、以10~30℃/h的速率使熔体温度降至1200~1400℃,保持10~30h后以10~30℃/h的速率降至室温。
申请公布号 CN103911662B 申请公布日期 2016.08.03
申请号 CN201210593282.1 申请日期 2012.12.31
申请人 中国科学院上海硅酸盐研究所;上海硅酸盐研究所中试基地 发明人 涂小牛;郑燕青;孔海宽;杨建华;施尔畏
分类号 C30B29/30(2006.01)I;C30B15/20(2006.01)I 主分类号 C30B29/30(2006.01)I
代理机构 上海瀚桥专利代理事务所(普通合伙) 31261 代理人 曹芳玲
主权项 一种硅酸镓镧压电晶体的制造方法,所述方法采用坩埚提拉法生长晶体,其特征在于,温度梯度为:径向温度梯度范围是3~10℃/cm,轴向温度梯度范围是10~50℃/cm;在接种工序中,将原料加热至熔化并在高于熔化温度80℃~140℃下保温使熔体稳定,并将籽晶在高于熔化温度10℃~30℃下接触熔体;旋转籽晶并开始提拉生长晶体,其中,在缩颈工序中,提拉速度为3~5mm/h,并以接种温度为基准以1~5℃/h的速率将熔体温度升高4~8℃,控制提拉高度为3~6mm并使生长出的晶体直径为Φ4~6mm;在扩肩工序中,以上述缩颈工序的温度为基准,以0.5~3℃/h的速率降低熔体温度,并保持晶体的提拉速度为0.5~2mm/h,旋转速度为18~27rpm,控制提拉高度为20~40mm并使晶体的直径从Φ4~6mm扩大到Φ75~85mm;在等径工序中,以‑3~3℃/h 的速率调节熔体温度,并保持晶体的提拉速度为0.5~2mm/h,旋转速度为18~27rpm,控制提拉高度为75~85mm并使晶体直径控制在Φ75~85mm;收尾工序,提拉速度为3~5mm/h,并以1~3℃/h的升温速率升高熔体温度,并保持转速为23~25rpm,控制提拉高度为20~30mm并使晶体直径从Φ80±2mm缩小到Φ18~22mm;以及在原位退火工序中,提拉晶体使晶体脱离熔体后保持位置不变并旋转晶体、以10~30℃/h的速率使熔体温度降至1200~1400 ℃,保持10~30h后以10~30℃/h的速率降至室温;所得硅酸镓镧压电晶体的压电系数d<sub>11</sub>离散度小于±5%,频率厚度常数离散度小于±2%,X射线双晶衍射线FWHM小于30″,其尺寸大于Φ80mm×80mm。
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