METHOD AND SYSTEM FOR GALVANIZING BY PLASMA EVAPORATION

摘要

본 발명은 하나 이상의 강철제품으로 구성되는 연속한 기재의 플라즈마 처리를 위한 방법과 플랜트에 관한 것으로, 기재가 적어도 하나의 플라즈마 처리영역을 통하여 차례로 이송되는 것에 있어서, 처리영역에서 플라즈마를 발생하기 위한 전력이 기재가 이러한 처리영역을 통하여 이동할 때 이 처리영역내에 존재하는 기재의 면적에 따라 변화됨을 특징으로 한다.