于基底中形成图案的方法

摘要

本发明公开了一种于基底中形成图案的方法，其是先提供具有图案区域的基底。然后，在图案区域中，于基底上形成多个条状掩模层。在这些条状掩模层中，至少两个相邻的条状掩模层分别具有突出部，且这两个突出部面向彼此。接着，于条状掩模层的侧壁上形成间隙壁，其中间隙壁的厚度大于两个突出部之间的距离的一半。而后，移除条状掩模层。继之，以间隙壁为掩模，进行蚀刻工艺，以于基底中形成沟渠。之后，于沟渠中填入材料。本发明可有效地降低生产成本以及减少工艺步骤。

主权项

一种于基底中形成图案的方法，包括：提供具有图案区域的基底；在所述图案区域中，于所述基底上形成多个条状掩模层，在所述条状掩模层中，至少两个相邻的所述条状掩模层分别具有突出部，且所述突出部面向彼此；于所述条状掩模层的侧壁上形成间隙壁，其中所述间隙壁的厚度大于两个所述突出部之间的距离的一半；移除所述条状掩模层；以所述间隙壁为掩模，进行蚀刻工艺，以于所述基底中形成沟渠；以及于沟渠中填入材料，在形成所述间隙壁之后以及移除所述条状掩模层之前，还包括在所述图案区域外形成块状掩模层，其中所述块状掩模层覆盖部分所述间隙壁。