发明名称 一种量子点发光二极管及其制备方法
摘要 本发明公开一种量子点发光二极管及其制备方法。制备方法包括步骤:A、在ITO基板上旋涂一层非酸性亲油性有机物,然后进行加热退火;B、在所述非酸性亲油性有机物表面旋涂PEDOT:PSS作为空穴注入层,然后进行加热退火;C、在空穴注入层上旋涂一层空穴传输材料作为空穴传输层,然后进行热处理;D、将量子点发光层沉积在空穴传输层表面,然后进行热处理;E、在量子点表面依次沉积电子传输层和电子注入层;F、在沉积完各功能层的ITO基板上蒸镀阴极。通过本发明,省去了制作过程中紫外氧化处理和氧气等离子处理等工序,简化了工艺步骤。并且能够更好地陷入空穴,增强空穴注入能力,从而提高QLED发光效率。
申请公布号 CN105826483A 申请公布日期 2016.08.03
申请号 CN201610287986.4 申请日期 2016.05.04
申请人 TCL集团股份有限公司 发明人 刘佳;曹蔚然;杨一行;钱磊
分类号 H01L51/50(2006.01)I;H01L51/56(2006.01)I 主分类号 H01L51/50(2006.01)I
代理机构 深圳市君胜知识产权代理事务所 44268 代理人 王永文;刘文求
主权项 一种量子点发光二极管的制备方法,其特征在于,包括步骤:A、在ITO基板上旋涂一层非酸性亲油性有机物,然后进行加热退火;B、在所述非酸性亲油性有机物表面旋涂PEDOT:PSS作为空穴注入层,然后进行加热退火;C、在空穴注入层上旋涂一层空穴传输材料作为空穴传输层,然后进行热处理;D、将量子点发光层沉积在空穴传输层表面,然后进行热处理;E、在量子点表面依次沉积电子传输层和电子注入层;F、在沉积完各功能层的ITO基板上蒸镀阴极。
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