发明名称 一种硅片和基板预对准测量装置和方法
摘要 本发明公开一种硅片和基板预对准测量装置,其特征在于,沿光线传播方向依次包括:激光器、柱面镜、被测物、成像镜片、照明光阑、成像镜片、柱面镜和CCD探测器探测器;所述激光器、被测物和CCD探测器探测器,各位于整个所述测量装置所形成的三角型的顶点上,所述三角型所在平面与所述被测物所在平面垂直,且所述三角型所在面相切于所述被测物的边缘,所述经过被测物反射的光线中体现了所述被测物及承载所述被测物的工件台而形成的台阶位置信息和台阶高度信息。本发明还公开了一种硅片和基板预对准测量方法。与现有技术相比较,本发明通过计算被测物与承载物的高度差,并与被测物的名义位置比较,可以消除吸盘沟槽给硅片对准带来的干扰,可以更可靠的进行键合片预对准,并保证了水平向与垂直向的分辨率匹配。
申请公布号 CN105807579A 申请公布日期 2016.07.27
申请号 CN201410845231.2 申请日期 2014.12.31
申请人 上海微电子装备有限公司 发明人 杜荣;于大维;於陈慧
分类号 G03F9/00(2006.01)I 主分类号 G03F9/00(2006.01)I
代理机构 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人 屈蘅
主权项 一种硅片和基板预对准测量装置,其特征在于,沿光线传播方向依次包括:激光器、柱面镜、被测物、成像镜片、照明光阑、成像镜片、柱面镜和CCD探测器探测器;所述激光器、被测物和CCD探测器探测器,各位于整个所述测量装置所形成的三角型的顶点上,所述三角型所在平面与所述被测物所在平面垂直,且所述三角型所在面相切于所述被测物的边缘,所述经过被测物反射的光线中体现了所述被测物及承载所述被测物的工件台而形成的台阶位置信息和台阶高度信息。
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