| 发明名称 | 对抗力施加装置、掩膜制造装置及相应方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种对抗力施加装置、掩膜制造装置及相应方法，所述对抗力施加装置包括：一个或多个施加装置主体；与每个施加装置主体枢转连接的一个或多个接触构件，其中，所述接触构件被配置为用于与框架相接触，所述施加装置主体被配置为用于通过移动带动所述接触构件并通过所述接触构件向框架施加对抗力，其中所述接触构件的旋转自由度受到限制。 | ||
| 申请公布号 | CN105810853A | 申请公布日期 | 2016.07.27 |
| 申请号 | CN201610332615.3 | 申请日期 | 2016.05.19 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 | 发明人 | 林治明;王震;黄俊杰;张健 |
| 分类号 | H01L51/56(2006.01)I;H01L51/00(2006.01)I;C23C14/04(2006.01)I | 主分类号 | H01L51/56(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人 | 张亚非;李峥 |
| 主权项 | 一种对抗力施加装置，包括：一个或多个施加装置主体；与每个施加装置主体枢转连接的一个或多个接触构件，其中，所述接触构件被配置为用于与框架相接触，所述施加装置主体被配置为用于通过移动带动所述接触构件并通过所述接触构件向框架施加对抗力，其中所述接触构件的旋转自由度受到限制。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||