TILTED PLATE FOR BATCH PROCESSING AND METHODS OF USE

摘要

다수의 기판들을 프로세싱하기 위한 방법들 및 기판 프로세싱 챔버가 제공되며, 기판 프로세싱 챔버는 일반적으로, 가스 분배 어셈블리, 각각의 가스 분배 어셈블리에 인접하는 경로를 따라서 기판들을 회전시키기 위한 서셉터 어셈블리, 및 프로세싱 챔버에서의 가스 유동의 각도를 변경하기 위한 가스 다이버터(gas diverter)를 포함한다.