发明名称 |
测量光阻膜厚的方法 |
摘要 |
本发明提供一种测量光阻膜厚的方法,所述方法包括:A)随着探针沿基板上各颜色光阻的涂布方向的划动,感测探针划过的每个位置的光阻的膜厚;B)识别探针划过的每个位置的光阻的颜色;C)输出以识别的光阻的颜色来表示对应光阻的膜厚的膜厚曲线;D)根据所述膜厚曲线确定各颜色光阻的膜厚。在根据本发明示例性实施例的测量光阻膜厚的方法中,通过将膜厚曲线中各种颜色的光阻的膜厚曲线段表示为各自的颜色,显示膜厚曲线时同步显示光阻的颜色,方便测量人员直接辨别各段光阻的颜色,可提高薄膜测量仪的手动测量以及设置菜单时的准确性和效率。 |
申请公布号 |
CN105806205A |
申请公布日期 |
2016.07.27 |
申请号 |
CN201610150889.0 |
申请日期 |
2016.03.16 |
申请人 |
武汉华星光电技术有限公司 |
发明人 |
刘静;李启明 |
分类号 |
G01B7/06(2006.01)I;G01B11/06(2006.01)I |
主分类号 |
G01B7/06(2006.01)I |
代理机构 |
深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 |
代理人 |
孙伟峰;侯艺 |
主权项 |
一种测量光阻膜厚的方法,其特征在于,包括:A、随着探针沿基板上各颜色光阻的涂布方向的划动,感测探针划过的每个位置的光阻的膜厚;B、识别探针划过的每个位置的光阻的颜色;C、输出以识别的光阻的颜色来表示对应光阻的膜厚的膜厚曲线;D、根据所述膜厚曲线确定各颜色光阻的膜厚。 |
地址 |
430070 湖北省武汉市东湖开发区高新大道666号生物城C5栋 |