发明名称 |
一种像素单元及其制备方法、阵列基板和显示装置 |
摘要 |
本发明提供了一种像素单元,所述像素单元包括:像素限定层、像素电极、发光层和公共电极,像素电极包括底面和侧面,侧面沿第二过孔的侧壁延伸至第二过孔侧壁的顶部,发光层形成于像素电极上,并将像素限定层覆盖,公共电极形成于发光层上,并将发光层覆盖并沿像素限定层顶面延伸。本发明的像素单元使得发光层向周围散射的光大为减少,像素单元之间的混色现象大为改善,有效地解决了光散射带来的混色问题,增大了像素单元的发光面积,提升了整体亮度,减少了掩膜成本并使整个工艺的成本大幅降低,提高了产能,提升了发光效果。 |
申请公布号 |
CN105810719A |
申请公布日期 |
2016.07.27 |
申请号 |
CN201610364630.6 |
申请日期 |
2016.05.27 |
申请人 |
京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
发明人 |
董向丹;李坤;代磊 |
分类号 |
H01L27/32(2006.01)I;H01L27/12(2006.01)I;G09F9/33(2006.01)I |
主分类号 |
H01L27/32(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
曹玲柱 |
主权项 |
一种像素单元,其特征在于,包括:像素限定层、像素电极、发光层和公共电极;其中,所述像素限定层具有第二过孔,像素电极、发光层和公共电极层叠于所述第二过孔内;所述像素电极包括底面和侧面,所述侧面沿第二过孔的侧壁延伸至第二过孔的侧壁的顶部;所述发光层形成于像素电极上并覆盖像素电极,所述公共电极形成于发光层上,将发光层覆盖并沿像素限定层的顶面延伸。 |
地址 |
100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 |