用于制备全息介质的包含具有低Tg的硼酸盐的光聚合物配制品

摘要

本发明涉及光聚合物配制品，其包含对异氰酸酯反应性的组分、多异氰酸酯组分、书写单体和含有至少一种染料和共引发剂的光引发剂，其特征在于所述共引发剂含有至少一种式(Ia)的物质。本发明进一步提供制备所述特定共引发剂的方法以及可通过该方法获得的共引发剂，并且额外地提供使用所述特定共引发剂制备全息介质的方法以及可使用本发明的光聚合物配制品获得的全息介质。本发明进一步涉及包含本发明的全息介质的层结构，并且也涉及适合作为共引发剂的特定硼酸盐。

主权项

光聚合物配制品，其包含对异氰酸酯反应性的组分、多异氰酸酯组分、书写单体和含有至少一种染料和共引发剂的光引发剂，其特征在于所述共引发剂含有至少一种式(Ia)的物质其中R¹是任选支化的C₁₄‑至C₂₂‑烷基，R² 是任选支化的和/或任选取代的C₈‑至C₂₂‑烷基、环己基或环庚基、C₇‑至C₁₀‑芳烷基或者被非离子基团取代的苯基，和R³和R⁴彼此独立地是任选支化的和/或任选取代的C₁‑至C₅‑烷基，或者R¹是任选支化的C₁₄‑至C₂₂‑烷基，R²是任选支化的和/或任选取代的C₈‑至C₂₂‑烷基或者C₇‑至C₁₀‑芳烷基，和R³和R⁴一起形成‑(CH₂)₄‑、‑(CH₂)₅‑或‑(CH₂)₂‑O‑(CH₂)₂‑桥，或者R¹是任选支化的C₁₄‑至C₂₂‑烷基，R²、R³和R⁴与N⁺一起形成至少被选自下述的一个基团取代的咪唑或吡啶环：C₁‑至C₈‑烷基、C₁‑至C₈‑烷氧基、C₅‑至C₇‑环烷基、苄基或苯基并且其中R²¹是任选取代的C₁‑至C₂₂‑烷基、C₃‑至C₂₂‑烯基、C₅‑至C₇‑环烷基或C₇‑至C₁₃‑芳烷基，和R²²至R²⁴彼此独立地是任选被选自下述的至少一个基团取代的C₆‑至C₁₀‑芳基：卤素、C₁‑至C₄‑烷基、三氟甲基、C₁‑至C₄‑烷氧基、三氟甲氧基、苯基或苯氧基。