发明名称 |
一种镍锌铁氧体基氮化钽薄膜微波负载及其制备方法 |
摘要 |
本发明涉及一种微波通信工程领域的微波负载,尤其是能够在常用旋磁材料上制备的,应用于高频段、高功率场合的氮化钽薄膜微波负载及其制备方法。通过在现有的镍锌铁氧体基氮化钽薄膜微波负载制作工艺中,首先对镍锌铁氧体基片进行表面处理,即利用中频磁控溅射的方法在基片表面镀上一层2‑100微米厚的氮化铝薄膜缓冲层后,再进行其余工艺操作完成整个镍锌铁氧体基氮化钽薄膜微波负载的制备。本发明在拥有良好的频率特性的同时,其额定功率在10瓦到30瓦之间,满足微波通信领域对微波负载的高功率要求,并且氮化铝薄膜缓冲层的制备工艺成熟简单且与之前氮化钽薄膜微波负载的制备工艺可以很好的兼容。 |
申请公布号 |
CN105811066A |
申请公布日期 |
2016.07.27 |
申请号 |
CN201610168324.5 |
申请日期 |
2016.03.21 |
申请人 |
电子科技大学 |
发明人 |
张怀武;赵祖静;杨雪梅 |
分类号 |
H01P11/00(2006.01)I;H01P1/26(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I |
主分类号 |
H01P11/00(2006.01)I |
代理机构 |
电子科技大学专利中心 51203 |
代理人 |
张杨 |
主权项 |
一种镍锌铁氧体基氮化钽薄膜微波负载,包括镍锌铁氧体基片、氮化钽电阻薄膜层、前端匹配电极、后端匹配电极和接地电极,其特征在于:还包括制备于镍锌铁氧体基片上的氮化铝薄膜缓冲层,该氮化铝薄膜缓冲层位于镍锌铁氧体基片和氮化钽电阻薄膜层之间,并隔断镍锌铁氧体基片和氮化钽电阻薄膜层,其厚度在2微米到100微米;前端匹配电极一端实现与氮化钽电阻薄膜层和氮化铝薄膜缓冲层的良好接触,另一端完成与外界微波电路的匹配连接;后端匹配电极与氮化钽电阻薄膜层和氮化铝薄膜缓冲层形成良好的接触,又要与接地电极实现导通。 |
地址 |
611731 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号 |