| 发明名称 | 反射掩模及其制造方法 | ||
| 摘要 | 一种反射掩模，包括：第一反射层，布置在掩模衬底之上；第一覆盖层，布置在第一反射层之上；第二反射图案，布置在部分第一覆盖层之上，以及移相器，布置在第二反射图案与第一覆盖层之间，以引起从第一反射层反射的第一光线和从第二反射图案反射的第二光线之间的相位差。还提供了相关方法。 | ||
| 申请公布号 | CN105807554A | 申请公布日期 | 2016.07.27 |
| 申请号 | CN201510482805.9 | 申请日期 | 2015.08.03 |
| 申请人 | 爱思开海力士有限公司 | 发明人 | 李仁桓;丘善英;金瑞玟;金用大;金辰寿;李柄勋;林美晶;林昌文;河泰中;玄润锡 |
| 分类号 | G03F1/24(2012.01)I | 主分类号 | G03F1/24(2012.01)I |
| 代理机构 | 北京弘权知识产权代理事务所(普通合伙) 11363 | 代理人 | 俞波;毋二省 |
| 主权项 | 一种反射掩模，包括：第一反射层，布置在掩模衬底之上；第一覆盖层，布置在所述第一反射层之上；第二反射图案，布置在第一覆盖层的部分之上，以引起从所述第一反射层反射的第一光线与从所述第二反射图案反射的第二光线之间的第一相位差部分；以及移相器，布置在所述第二反射图案与所述第一覆盖层之间，以引起反射的第一光线与反射的第二光线之间的额外的第二相位差部分。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||