发明名称 用于检查多孔基底的光学系统
摘要 一种用于使用试样检查多孔基底(26)的自动系统(10),包括传送装置(20),被放置成沿试样轴(30)将试样施加于多孔基底上的目标点;成像装置(12)和一个或多个透镜(16),被放置使得成像装置和透镜各自具有偏离试样轴的聚焦轴,并且所述成像装置和透镜具有实质上与目标点相同的检视焦点(34);光源(18),偏离传送装置以便照射表面目标;以及处理器(36),包括协调传送装置和成像装置的自动化和计时并且确定多孔基底的一个或多个特征的数据采集和控制系统。
申请公布号 CN103384821B 申请公布日期 2016.07.27
申请号 CN201180067744.X 申请日期 2011.12.16
申请人 通用电气公司 发明人 K.G.哈丁;Y.Z.威廉斯;E.海达里
分类号 G01N21/84(2006.01)I 主分类号 G01N21/84(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 徐予红;汤春龙
主权项 一种用于使用试样检查多孔基底的自动系统,包括:传送装置,被放置成沿试样轴将所述试样施加于所述多孔基底上的目标点,其中所述试样轴垂直于所述多孔基底;成像装置和一个或多个透镜,被放置使得所述成像装置和透镜各自具有平行但平移地偏离所述试样轴的聚焦轴,并且所述成像装置和透镜具有实质上与所述目标点相同的检视焦点;光源,偏离所述传送装置以便照射表面目标;以及处理器,包括协调所述传送装置和成像装置的自动化和计时以及确定所述多孔基底的一个或多个特征的数据采集和控制系统。
地址 美国纽约州