发明名称 具有变化热阻的晶片载体
摘要 本发明公开了一种具有变化热阻的晶片载体,特别是在化学气相沉积装置中,晶片载体(32)具有保持晶片的顶表面(34)以及被来自的加热元件(28)辐射热传递加热的底表面(36)。由于例如凹部(54)等特征,晶片载体的底表面(36)为非平面,因此晶片载体在不同位置处具有不同的厚度。晶片载体的较厚部分具有较高的热阻。不同位置处的不同热阻抵消对于晶片的热传递的不期望的非均匀性。晶片载体可具有凹槽,该凹槽具有凸起(553,853),以用于接合晶片边缘上的间隔位置。
申请公布号 CN105810630A 申请公布日期 2016.07.27
申请号 CN201610230451.3 申请日期 2009.08.28
申请人 威科仪器有限公司 发明人 B·沃尔夫;B·瑟德曼;E·A·阿穆尔
分类号 H01L21/687(2006.01)I;C23C16/458(2006.01)I;C23C16/46(2006.01)I 主分类号 H01L21/687(2006.01)I
代理机构 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人 王永建
主权项 一种晶片载体,其包括本体,该本体具有在水平方向上延伸的相反朝向的顶表面和底表面,该本体具有限定多个凹槽的多个晶片保持区域,该本体在每个晶片保持区域中限定出晶片支承部,每个这种晶片支承部适于保持晶片,其中晶片的顶表面暴露于本体的顶表面,该本体具有抑制水平方向上的热传递的一个或多个热障。
地址 美国纽约