发明名称 垂直集成的图像传感器芯片及其形成方法
摘要 一种器件包括背照式(BSI)图像传感器芯片,其包括设置在第一半导体衬底的正面上的图像传感器,以及位于第一半导体衬底正面上的包括多个金属层的第一互连结构。一种器件芯片与该图像传感器芯片接合。该器件芯片包括位于第二半导体衬底的正面上的有源器件,以及位于第二半导体衬底正面上的包括多个金属层的第二互连结构。第一通孔穿透BSI图像传感器芯片,从而连接位于第二互连结构中的第一金属焊盘。第二通孔穿透位于第一互连结构中的介电层,从而连接位于第一互连结构中的第二金属焊盘,其中,第一通孔和第二通孔电连接。本发明提供垂直集成的图像传感器芯片及其形成方法。
申请公布号 CN103426892B 申请公布日期 2016.07.27
申请号 CN201210480345.2 申请日期 2012.11.22
申请人 台湾积体电路制造股份有限公司 发明人 林政贤;洪丰基;杨敦年;刘人诚;陈思莹;王文德;许慈轩
分类号 H01L27/146(2006.01)I 主分类号 H01L27/146(2006.01)I
代理机构 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 代理人 章社杲;孙征
主权项 一种半导体器件,包括:背照式(BSI)图像传感器芯片,包括:第一半导体衬底;图像传感器,设置在所述第一半导体衬底的正面上;以及位于所述第一半导体衬底的正面上的第一互连结构,包括多个金属层;器件芯片,与所述图像传感器芯片接合,其中,所述器件芯片包括:第二半导体衬底;有源器件,位于所述第二半导体衬底的正面上;以及位于所述第二半导体衬底的正面上的第二互连结构,包括多个金属层;穿透背照式图像传感器芯片的第一通孔,与位于所述第二互连结构中的第一金属焊盘连接;穿透所述第一互连结构中的介电层的第二通孔,与位于所述第一互连结构中的第二金属焊盘连接,其中,所述第一通孔和所述第二通孔电连接;接触所述第一通孔和所述第二通孔的第三金属焊盘,其中所述第三金属焊盘与所述第一半导体衬底的一部分处于同一层;第四金属焊盘,位于所述第一互连结构中;以及引线接合焊盘,与所述第三金属焊盘处于同一层,其中,所述引线接合焊盘与所述第四金属焊盘电连接。
地址 中国台湾新竹