发明名称 一种耐高压高储能薄膜电容器及其制备方法
摘要 本发明公开了一种耐高压高储能薄膜电容器,该薄膜电容器以Si为衬底,由顺序叠接在衬底上的金属下电极层、下耐击穿子层、钪掺杂钛酸铋钠压电薄膜层、上耐击穿子层以及金属上电极层,其中,所述的钪掺杂钛酸铋钠压电薄膜层的组成通式为(Na<sub>0.85</sub>K<sub>0.15</sub>)<sub>0.5</sub>Bi<sub>0.5</sub>Ti<sub>(1‑x)</sub>Sc<sub>x</sub>O<sub>3</sub>,0&lt;x≤0.4。本发明还公开了该薄膜电容器的制备方法。本发明日工的薄膜电容器,其介电常数高,储能量大,温度稳定性好。
申请公布号 CN105810435A 申请公布日期 2016.07.27
申请号 CN201610230760.0 申请日期 2016.04.13
申请人 东莞市联洲知识产权运营管理有限公司 发明人 王文庆
分类号 H01G4/33(2006.01)I;H01G4/12(2006.01)I;H01G4/08(2006.01)I;H01G13/00(2013.01)I;C04B35/462(2006.01)I 主分类号 H01G4/33(2006.01)I
代理机构 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 代理人 连平
主权项 一种耐高压高储能薄膜电容器,其特征在于,该薄膜电容器以Si为衬底,由顺序叠接在衬底上的金属下电极层、下耐击穿子层、钪掺杂钛酸铋钠压电薄膜层、上耐击穿子层以及金属上电极层,其中,所述的钪掺杂钛酸铋钠压电薄膜层的组成通式为(Na<sub>0.85</sub>K<sub>0.15</sub>)<sub>0.5</sub>Bi<sub>0.5</sub>Ti<sub>(1‑x)</sub>Sc<sub>x</sub>O<sub>3</sub>,0&lt;x≤0.4。
地址 523000 广东省东莞市松山湖高新技术产业工发区生产力大厦406