发明名称 |
薄型玻璃基板的制作方法 |
摘要 |
本发明提供一种薄型玻璃基板的制作方法,包括如下步骤:步骤1、提供玻璃基板(1),对所述玻璃基板(1)进行抛光制程;步骤2、对所述玻璃基板(1)进行薄化制程;所述薄化制程中通过向所述玻璃基板(1)的两侧表面喷淋蚀刻液,对所述玻璃基板(1)进行蚀刻;该方法通过在对玻璃基板进行薄化制程前先对玻璃基板进行抛光制程,减少玻璃基板表面的凹凸点、刮伤等不良,然后在对玻璃基板的薄化制程中采用向玻璃基板的两侧表面喷淋蚀刻液的方法,对玻璃基板进行蚀刻;在实现玻璃基板薄化的同时,有效避免了凹凸点、刮伤、碎亮点等不良的产生,提升了制程的良率。 |
申请公布号 |
CN105776879A |
申请公布日期 |
2016.07.20 |
申请号 |
CN201610065013.6 |
申请日期 |
2016.01.29 |
申请人 |
武汉华星光电技术有限公司 |
发明人 |
郑自可 |
分类号 |
C03C15/00(2006.01)I;B24B7/24(2006.01)I |
主分类号 |
C03C15/00(2006.01)I |
代理机构 |
深圳市德力知识产权代理事务所 44265 |
代理人 |
林才桂 |
主权项 |
一种薄型玻璃基板的制作方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤1、提供玻璃基板(1),对所述玻璃基板(1)进行抛光制程;步骤2、对所述玻璃基板(1)进行薄化制程;所述薄化制程中通过向所述玻璃基板(1)的两侧表面喷淋蚀刻液,对所述玻璃基板(1)进行蚀刻。 |
地址 |
430070 湖北省武汉市东湖开发区高新大道666号生物城C5栋 |