一种ITO靶材的背面金属化方法

摘要

本发明涉及一种ITO靶材的背面金属化方法，该方法是将靶材清净，将不需要金属化的部分用耐热薄膜覆盖，放在常温的加热台上，需金属化的一面朝上，将加热台升温至200～230度，使靶材需金属化的一面温度为170～180度，将铟料放置在靶材待金属化的一面，待其熔化后用铜刷均匀地涂满待金属化的一面，然后用超声波涂铟机再均匀地涂2～4遍；用刮板将多余铟料刮干净；自然降温后将靶材取下加热台，去掉薄膜，完成靶材金属化。本发明采用简单的加热台配合超声波涂铟机进行，可以简单高效地完成ITO靶材背面金属化，其优点为：无需昂贵设备、操作简单高效无污染、可进行大面积的金属化，成本低，适合大批量生产。

主权项

一种ITO靶材的背面金属化方法，其特征在于：包括以下步骤：⑴将待金属化的ITO靶材用去离子水洗净并擦干；⑵将步骤⑴靶材不需金属化的表面用耐热薄膜覆盖；⑶将步骤⑵靶材放置在常温的加热台上，需金属化的一面朝上；⑷然后将加热台以不大于5度/分钟的升温速度升温至200～230度，并恒温在200～230度，使靶材待金属化的一面温度达到170～180度；⑸工作台恒温在200～230度，将金属铟放置在靶材待金属化的一面，待其熔化后，用铜刷均匀地将金属铟涂满靶材待金属化的一面，然后用超声波涂铟机对已完全覆盖靶材金属化面的铟层再次涂抹2～4遍；⑹用刮板将未粘附上的多余的铟料刮干净；⑺将加热台断电，自然降温至室温，将完成金属化的靶材取下加热台，然后去掉包覆的薄膜，即完成靶材金属化。