发明名称 |
双极性晶体管 |
摘要 |
本发明公开一种能够提升耐压并且提升电流放大率的双极性晶体管。双极性晶体管(10)具有:p型的发射区(40);p型的集电区(20);n型的基区(30),其被设置于发射区(40)与集电区(20)之间;p型的第一埋入区(50),其被设置于基区(30)的下方;n型区(18),其与基区(30)相比n型杂质浓度较低,并且与发射区(40)、集电区(20)、基区(30)、第一埋入区(50)相接,并使发射区(40)与基区(30)以及第一埋入区(50)分离,且使集电区(20)与基区(30)以及第一埋入区(50)分离。基区(30)的一部分与第一埋入区(50)相比向集电区(20)侧突出。 |
申请公布号 |
CN105793966A |
申请公布日期 |
2016.07.20 |
申请号 |
CN201480057758.7 |
申请日期 |
2014.08.27 |
申请人 |
丰田自动车株式会社 |
发明人 |
大川峰司;江口博臣;金原啓道;池田智史 |
分类号 |
H01L21/331(2006.01)I;H01L29/73(2006.01)I;H01L29/732(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/331(2006.01)I |
代理机构 |
北京金信知识产权代理有限公司 11225 |
代理人 |
苏萌萌;范文萍 |
主权项 |
一种双极性晶体管,其为具有半导体基板的双极性晶体管,其中,半导体基板具有:p型的发射区,其被设置在半导体基板的上表面的一部分处;p型的集电区,其被设置在半导体基板的上表面的一部分处;n型的基区,其被设置在半导体基板的上表面的一部分处,且被设置在发射区与集电区之间;p型的第一埋入区,其被设置于基区的下方;n型区,其与基区相比n型杂质浓度较低,并且与发射区、集电区、基区、第一埋入区相接,并使发射区与基区以及第一埋入区分离,且使集电区与基区以及第一埋入区分离,基区的一部分与第一埋入区相比向集电区侧突出。 |
地址 |
日本爱知县 |