发明名称 Ag合金膜及Ag合金膜形成用溅射靶
摘要 该Ag合金膜含有0.1质量%以上且1.5质量%以下的In、1质量ppm以上且50质量ppm以下的Cu,剩余部分由Ag及不可避免的杂质构成。该溅射靶含有0.1质量%以上且1.5质量%以下的In、1质量ppm以上且50质量ppm以下的Cu,剩余部分由Ag及不可避免的杂质构成,且氧浓度小于50质量ppm,溅射面的面积为0.25m<sup>2</sup>以上,Cu的面内浓度分布D<sub>Cu</sub>(=(σ<sub>Cu</sub>/μ<sub>Cu</sub>)×100)为40%以下。
申请公布号 CN105793449A 申请公布日期 2016.07.20
申请号 CN201580002653.6 申请日期 2015.03.18
申请人 三菱综合材料株式会社 发明人 野中庄平;小见山昌三;岁森悠人
分类号 C22C5/06(2006.01)I;C23C14/34(2006.01)I;H01B1/02(2006.01)I;H01B5/02(2006.01)I 主分类号 C22C5/06(2006.01)I
代理机构 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 代理人 康泉;王珍仙
主权项 一种Ag合金膜,其特征在于,具有如下组成:含有0.1质量%以上且1.5质量%以下的In、1质量ppm以上且50质量ppm以下的Cu,剩余部分由Ag及不可避免的杂质构成。
地址 日本东京