发明名称 | 一种利用热处理减小微电子器件表面粗糙度的方法 | ||
摘要 | 本发明属于微电子器件表面处理技术领域,具体为一种利用热处理减小微电子器件表面粗糙度的方法。本发明利用高功率热源迅速提升样品表面温度,样品另一侧用恒温平台控制在室温;由于样品衬底位导热率极其高的硅片,温度梯度主要集中在几百纳米到几微米的光刻胶内,从而形成一个很大的温度梯度,使只有样品表面很薄的一层超过玻璃化温度,这一部分发生融化、回流现象,减小了粗糙度,而样品整体形貌则并没有发生改变。该方法简便、有效、兼容性好、适用度广,对于在某一特定温度能够熔融的几乎所有材料都有很好的效果。 | ||
申请公布号 | CN105789044A | 申请公布日期 | 2016.07.20 |
申请号 | CN201610163339.2 | 申请日期 | 2016.03.19 |
申请人 | 复旦大学 | 发明人 | 陈宜方;徐晨;陆冰睿 |
分类号 | H01L21/324(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/324(2006.01)I |
代理机构 | 上海正旦专利代理有限公司 31200 | 代理人 | 陆飞;盛志范 |
主权项 | 一种利用热处理减小微电子器件表面粗糙度的方法,其特征在于具体步骤如下:(1)准备微纳结构样品,其表面为光刻胶图形;(2)将样品置于强热源下,有图形的一侧面向热源,另一侧置于一恒温冷却片上,使之恒定在室温状态;(3)热处理较短时间后迅速取出,快速冷却;(4)反复上述步骤(3)多次,直到达到预期的粗糙度等级。 | ||
地址 | 200433 上海市杨浦区邯郸路220号 |