等离子体处理装置及等离子体分布的调节方法

摘要

本发明公开了一种等离子体处理装置，其包含反应腔室和驱动单元。反应腔室包括用于载置待处理基片的基座；围绕基片外周设置的组合式遮蔽环，其包括内环和外环；以及多个叉状连杆，其上端分为内外两个支杆，其中外侧支杆对应于外环，内侧支杆对应于内环。每个支杆顶端具有支撑部，外侧支杆的支撑部的高度大于内侧支杆的支撑部的高度。驱动单元驱动叉状连杆在第一位置和第二位置之间垂直移动，当叉状连杆位于第一位置时，两个支杆的支撑部均不与组合式遮蔽环接触；当叉状连杆上升至第二位置时，外环抵贴外侧支杆的支撑部、内环抵贴内侧支杆的支撑部。本发明能够提高基片表面等离子体分布的均匀性。

主权项

一种等离子体处理装置，包含：反应腔室，其包括：用于载置待处理基片的基座，设于所述反应腔室内；可移动的组合式遮蔽环，围绕所述基片的外周侧设置，其包括内环和外环，所述外环的内径大于所述内环的内径；以及多个叉状连杆，其上端分为内外两个支杆，其中外侧支杆的位置对应于所述外环，内侧支杆的位置对应于所述内环；其中，每一所述支杆的顶端具有一支撑部，所述外侧支杆的支撑部的高度大于所述内侧支杆的支撑部的高度；驱动单元，与所述叉状连杆的下端连接，用于驱动所述叉状连杆在第一位置和第二位置之间垂直移动；其中当所述叉状连杆位于所述第一位置时，所述两个支杆的支撑部均不与所述组合式遮蔽环接触；当所述叉状连杆上升至所述第二位置时，所述外环抵贴所述外侧支杆的支撑部、所述内环抵贴所述内侧支杆的支撑部。