发明名称 封装结构及其制法
摘要 本发明提供一种封装结构及其制法,该制法先于一承载板上形成第一线路层,且于该第一线路层上形成多个第一导电体,再以第一绝缘层包覆该第一线路层与所述多个第一导电体,接着于该第一绝缘层上形成第二线路层,且于该第二线路层上形成多个第二导电体,再以第二绝缘层包覆该第二线路层与所述多个第二导电体,之后于该第二绝缘层形成至少一开口,使该开口延伸至该第二表面内,以于该开口中设置至少一电子元件,所以通过先形成两绝缘层,再形成该开口,因而不需堆叠或压合已开口的基材,使该电子元件不会受压迫而位移,以减少良率损失。
申请公布号 CN105789161A 申请公布日期 2016.07.20
申请号 CN201410802435.8 申请日期 2014.12.22
申请人 恒劲科技股份有限公司 发明人 许诗滨;曾昭崇
分类号 H01L23/485(2006.01)I;H01L21/60(2006.01)I 主分类号 H01L23/485(2006.01)I
代理机构 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人 王芝艳;冯志云
主权项 一种封装结构,其特征在于,该封装结构包括:一第一绝缘层,其具有相对的第一表面及第二表面;一第一线路层,其结合于该第一绝缘层的第一表面;多个第一导电体,其形成于该第一绝缘层中并电性连接该第一线路层;一第二线路层,其形成于该第一绝缘层的第二表面上并通过所述多个第一导电体电性连接该第一线路层;多个第二导电体,其形成于该第二线路层上;一第二绝缘层,其形成于该第一绝缘层的第二表面上并包覆该第二线路层与所述多个第二导电体,且该第二绝缘层形成有至少一开口,以令该开口延伸至该第一绝缘层内,并使该第一线路层的部分表面外露于该开口;以及至少一电子元件,其设于该开口中并电性连接该第一线路层。
地址 中国台湾新竹县