负载腔室及其使用该负载腔室之多腔室处理系统

摘要

负载腔室及其使用该负载腔室之多腔室处理系统。本发明所揭露之内容为一种负载腔室，包括一腔室本体，该腔室本体包括：至少一对腔室，用于承载一或多个晶圆基板；及至少一内部管线，设置于该对腔室的两者之间并连接该对腔室，以提供该对腔室之气体回填或抽取。所述负载腔室具有多层结构，而该等多层结构之任一者包含该对腔室。所述腔室本体包含一框架，该框架具有复数个内壁，该等内壁定义该对腔室。所述腔视本体更包含复数个盖板，该等盖板以可拆卸的方式结合至该框架，并且该等盖板与该框架的内壁定义出该对腔室。

主权项

一种负载腔室，其特征在于，包括一腔室本体，该腔室本体包括：至少一对腔室，设置于该腔室本体的一层结构中，用于承载一或多个晶圆基板；至少一内部管线，设置于该对腔室的两者之间并连接该对腔室，使该对腔室相互连通，以提供该对腔室之气体回填或抽取；及用于承载一晶圆基板之复数个晶圆支架，该等晶圆支架定位于该对腔室中，并可与所述负载腔室之外的一机械手前端手指相互配合，其中所述晶圆支架具有复数沟槽，用于校正该机械手前端手指与该晶圆支架的相对位置。