| 摘要 |
복수의 플라즈마건을 구비하고, 막두께의 균일화를 도모할 수 있는 성막장치를 제공한다. 복수의 플라즈마건(5)을 구비하는 성막장치(1)에 있어서, 하스부(20)와 피처리물배치부와의 사이에 전위의 구배를 발생시키는 전위구배발생부(7)를 구비하는 구성으로 한다. 전위구배발생부(7)에 의하여, 전위의 구배를 발생시킴으로써, 이온화된 성막재료입자의 거동을 구속하여, 이온화된 성막재료입자의 에너지 및 유속분포를 변화시켜, 피처리물에 부착되는 성막재료의 두께를 조절한다. |
