发明名称 一种高磁能积纳米双相复合永磁材料及其制备方法
摘要 本发明公开了一种高磁能积纳米双相复合永磁材料及其制备方法。该材料包括多个薄层,其采用热压烧结成型的方式堆叠在一起;各个所述薄层均由上表面分布有多个凹槽的硬磁相薄片和软磁相薄片组成,所述硬磁相薄片和所述软磁相薄片的上表面相对而且各自相邻的两个凹槽之间的凸部相互交替卡入对方的凹槽中,并且所述硬磁相薄片的各凹槽与卡入各凹槽中的所述软磁相薄片的凸部紧密配合。其制备是利用纳米压印技术将硬磁相加工成带有均匀分布凹槽的薄片,再将软磁相均匀填充在硬磁相的上表面及凹槽中。其保证了软硬磁相之间充分的交换耦合作用,得到的磁体具有高的取向度,最大磁能积为45-70MGOe,其制备方法简单可控,重复性好,成本适中。
申请公布号 CN104332262B 申请公布日期 2016.07.13
申请号 CN201410429660.1 申请日期 2014.08.27
申请人 安泰科技股份有限公司 发明人 周少雄;董帮少;向睿;张广强;赵言辉;李宗臻
分类号 H01F1/00(2006.01)I;B22F7/02(2006.01)I 主分类号 H01F1/00(2006.01)I
代理机构 北京五洲洋和知识产权代理事务所(普通合伙) 11387 代理人 刘春成;荣红颖
主权项 一种高磁能积纳米双相复合永磁材料,其特征在于,包括:多个薄层,所述多个薄层采用热压烧结成型的方式堆叠在一起;其中,各个所述薄层均由上表面分布有多个凹槽的硬磁相薄片和软磁相薄片组成,所述硬磁相薄片和所述软磁相薄片的上表面相对而且各自相邻的两个凹槽之间的凸部相互交替卡入对方的凹槽中,并且所述硬磁相薄片的各凹槽与卡入所述硬磁相薄片各凹槽中的所述软磁相薄片的凸部紧密配合;所述软磁相薄片和/或所述硬磁相薄片的厚度为30‑500nm,所述凹槽宽度为10‑200nm,深度为20‑480nm,各个凹槽之间的间隔为20‑200nm;所述硬磁相薄片和软磁相薄片上的多个凹槽为均匀分布。
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