发明名称 基板処理装置、半導体装置の製造方法、プログラム
摘要 【課題】パーティクルの発生を抑制可能な技術を提供する。【解決手段】基板を処理する処理容器と、処理容器に処理ガスを供給するガス供給部と、処理容器内に設けられた基板載置台と、処理容器の底壁に設けられた穴に貫通し、上部に基板載置台が設けられるシャフトと、処理容器の外側にて、シャフトの外周を囲むように構成され、内側空間が処理容器の空間と連通するベローズと、処理容器の底部にて穴の一部に沿って構成された第一の構造、及び穴の他部に沿って構成された第一の構造に隣接する第二の構造を含む少なくとも第一の構造及び第二の構造で構成される部品落下防止部と、を有する。【選択図】図1
申请公布号 JP5951095(B1) 申请公布日期 2016.07.13
申请号 JP20150176761 申请日期 2015.09.08
申请人 株式会社日立国際電気 发明人 芦原 洋司;澤田 元司
分类号 C23C16/44;H01L21/205;H01L21/22 主分类号 C23C16/44
代理机构 代理人
主权项
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