发明名称 一种具有半绝缘层的氮化镓基高电子迁移率晶体管
摘要 一种具有半绝缘层的氮化镓基高电子迁移率晶体管,属于半导体器件领域,包括衬底上依次形成的成核层、GaN层和势垒层,以及势垒层上的源极、栅极和漏极,其中源极、漏极与势垒层形成欧姆接触,栅极与势垒层形成肖特基接触,其特征是,它还包括一层位于势垒层上、栅极和漏极之间的,并与栅极和漏极相连的半绝缘材料层。所述势垒层和半绝缘材料层之间还可有一层绝缘材料层。其中的半绝缘材料层,相当于一个电阻型场板,利用这一场板对其下面的势垒层中的电场分布产生的调制作用,降低栅漏之间电场的峰值,从而提高了栅漏之间击穿所需的电压,也即提高晶体管的击穿电压。
申请公布号 CN105762184A 申请公布日期 2016.07.13
申请号 CN201610270783.4 申请日期 2016.04.27
申请人 电子科技大学 发明人 杜江锋;李振超
分类号 H01L29/778(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I 主分类号 H01L29/778(2006.01)I
代理机构 电子科技大学专利中心 51203 代理人 张杨
主权项 一种具有半绝缘层的氮化镓基高电子迁移率晶体管,包括衬底(7)上依次形成的成核层(6)、GaN层(5)和势垒层(4),以及势垒层(4)上的源极(1)、栅极(2)和漏极(3),其中源极(1)、漏极(3)与势垒层(4)形成欧姆接触,栅极(2)与势垒层形成肖特基接触,其特征是,它还包括一层位于势垒层(4)上、栅极(2)和漏极(3)之间的,并与栅极(2)和漏极(3)相连的半绝缘材料层(8)。
地址 611731 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号