| 发明名称 |
SPUTTERING TARGET COMPRISING TUNGSTEN CARBIDE OR TITANIUM CARBIDE |
| 摘要 |
본 발명은, 순도가 4N 이상이고, 밀도가 98 ％ 이상인 것을 특징으로 하는 탄화 텅스텐 또는 탄화 티탄으로 이루어지는 스퍼터링 타깃. 순도를 고순도로 유지함과 함께 밀도가 높고, 균일하고 또한 고경도이며, 안정적인 고속 성막이 가능하고 파티클의 발생이 적은, 탄화 텅스텐 스퍼터링 또는 탄화 티탄으로 이루어지는 타깃을 제공하는 것을 과제로 한다. |
| 申请公布号 |
KR20160084434(A) |
申请公布日期 |
2016.07.13 |
| 申请号 |
KR20167015205 |
申请日期 |
2015.03.13 |
| 申请人 |
JX NIPPON MINING & METALS CORPORATION |
发明人 |
OHASHI KAZUMASA;ODA KUNIHIRO |
| 分类号 |
C23C14/34;C04B35/56;C04B35/645;C23C14/06;C23C14/35 |
主分类号 |
C23C14/34 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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