用于处理待处理的扁平材料的装置及方法

摘要

根据本发明的装置1用于以处理液F温和地处理待处理的扁平材料B。装置1具有以下组件：至少一个处理室20，处理液F在处理室20中可累积至浴槽液位M，用于将处理液F供给至所述至少一个处理室20内的至少一个供给装置7，至少一个输送装置30，使用该输送装置30可在所述浴槽液位M下方的输送平面E中的水平位置输送所述待处理的扁平材料B通过所述至少一个处理室20，用于所述处理液F的至少一个接收区4，以及至少一个排放装置40，其各自具有用于所述处理液F的至少一个排放开口41，用于以各排放速率将所述处理液F从所述至少一个处理室20传送进入所述至少一个接收区4。所述至少一个排放装置40各自具有至少一个调节系统43，使用该调节系统43可调节所述处理液F通过所述至少一个排放开口41的排放速率。

主权项

一种用于化学或电解处理的装置(1)，其用于以处理液(F)化学或电解处理待处理的扁平材料(B)，其具有：‑至少一个处理室(20)，处理液(F)在处理室(20)中可累积至浴槽液位(M)；‑用于将处理液(F)供给至所述至少一个处理室(20)内的至少一个供给装置(7)；‑至少一个输送装置(30)，使用该输送装置(30)可在所述浴槽液位(M)下方的输送平面(E)中的水平位置输送所述待处理的扁平材料(B)通过所述至少一个处理室(20)；‑用于所述处理液(F)的至少一个接收区(4)；以及‑至少一个排放装置(40)，其各自具有用于所述处理液(F)的至少一个排放开口(41)，用于以各排放速率将所述处理液(F)从所述至少一个处理室(20)传送进入所述至少一个接收区(4)；其中所述至少一个排放装置(40)各自具有至少一个调节系统(43)，使用该调节系统(43)可调节所述处理液(F)通过所述至少一个排放开口(41)的排放速率，在所述至少一个处理室(20)与所述至少一个排放装置(40)之间各布置至少一个筛分装置(60)，在所述至少一个筛分装置(60)与所述至少一个排放开口(41)之间形成各排放室(61)，其特征在于所述至少一个筛分装置(60)各具有至少一个通路开口(62)，供所述处理液(F)通过并进入所述至少一个排放室(61)，所述至少一个通路开口(62)布置在所述待处理的材料(B)的输送平面(E)的高度水平，和/或所述至少一个筛分装置(60)各自至少部分形成所述处理室(20)的底部，并与所述排放室(61)的下壁基本上平行延伸且与下壁隔开，从而在所述排放室(61)的下壁与所述筛分装置(60)之间形成通路间隙，所述筛分装置(60)形成通路开口(62)。