| 发明名称 | 与外涂光刻胶一起使用的涂料组合物 | ||
| 摘要 | 与外涂光刻胶一起使用的涂料组合物。本发明提供了一种形成光刻胶浮雕像的方法，所述方法包括：(a)在基材上涂覆包括树脂的减反射涂料组合物，所述树脂包括1)共价连接的交联剂组分和2)对应于下列式的化合物；(b)在上述涂料组合物层上涂覆光刻胶组合物；和(c)曝光和显影所述光刻胶层，从而制得光刻胶浮雕像，所述树脂包含聚酯键，所述树脂是由具有下式的一个或多个化合物形成的。<img file="DDA0000917952310000011.GIF" wi="1043" he="434" /> | ||
| 申请公布号 | CN105759569A | 申请公布日期 | 2016.07.13 |
| 申请号 | CN201610064533.5 | 申请日期 | 2010.05.20 |
| 申请人 | 罗门哈斯电子材料有限公司 | 发明人 | A·赞皮尼;V·简恩;刘骢;S·克雷;O·昂格伊 |
| 分类号 | G03F7/09(2006.01)I;C07D251/32(2006.01)I;C08G73/06(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/09(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人 | 陈哲锋 |
| 主权项 | 一种形成光刻胶浮雕像的方法，所述方法包括：(a)在基材上涂覆包括树脂的减反射涂料组合物，所述树脂包括1)共价连接的交联剂组分和2)对应于下列式的化合物：<img file="FDA0000917952290000011.GIF" wi="1043" he="435" />其中所述基团R<sup>1</sup>OOC(CH<sub>2</sub>)<sub>n</sub>‑、R<sup>2</sup>‑和R<sup>3</sup>OOC(CH<sub>2</sub>)<sub>m</sub>‑中至少两个是不同的酸或酯基团；和R<sup>1</sup>、R<sup>2</sup>和R<sup>3</sup>各自独立地是氢或非氢取代基；和n和m可以相同或不同，各自是一个整数；所述化合物具有卤素取代基；(b)在上述涂料组合物层上涂覆光刻胶组合物；和(c)曝光和显影所述光刻胶层，从而制得光刻胶浮雕像，所述树脂包含聚酯键，所述树脂是由具有下式的一个或多个化合物形成的：<img file="FDA0000917952290000012.GIF" wi="1043" he="435" />其中所述基团R<sup>1</sup>OOC(CH<sub>2</sub>)<sub>n</sub>‑、R<sup>2</sup>‑和R<sup>3</sup>OOC(CH<sub>2</sub>)<sub>m</sub>‑中至少两个是不同的酸或酯基团；和R<sup>1</sup>、R<sup>2</sup>和R<sup>3</sup>各自独立地是氢或非氢取代基；和n和m可以相同或不同，各自是一个整数。 | ||
| 地址 | 美国马萨诸塞州 | ||