发明名称 | 光感测阵列的光感测单元的制造方法及其结构 | ||
摘要 | 一种光感测阵列的光感测单元的制造方法,包括提供基板,基板上具有至少一单元区域。在基板上的单元区域内形成主动元件。在基板上的单元区域内形成第一电极层,所述第一电极层与主动元件电性连接。在主动元件上形成保护层。在保护层上形成遮蔽层,以遮蔽主动元件。于形成遮蔽层之后,在单元区域内的保护层上形成光感测层,以及,于光感测层上形成第二电极层。 | ||
申请公布号 | CN105762161A | 申请公布日期 | 2016.07.13 |
申请号 | CN201610107533.9 | 申请日期 | 2016.02.26 |
申请人 | 友达光电股份有限公司 | 发明人 | 陈盈宪;孙硕阳;郑造时;黄婉真;徐文斌;郑君丞 |
分类号 | H01L27/146(2006.01)I | 主分类号 | H01L27/146(2006.01)I |
代理机构 | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人 | 梁挥;鲍俊萍 |
主权项 | 一种光感测阵列的光感测单元的制造方法,其特征在于,包括:提供一基板,该基板上具有至少一单元区域;在该基板上的该单元区域内形成一主动元件;在该基板上的该单元区域内形成一第一电极层,该第一电极层与该主动元件电性连接;在该主动元件上形成一保护层;在该保护层上形成一遮蔽层,以遮蔽该主动元件;于形成该遮蔽层之后,在该单元区域内的该保护层上形成一光感测层;以及于该光感测层上形成一第二电极层。 | ||
地址 | 中国台湾新竹科学工业园区新竹市力行二路1号 |