发明名称 Wet gas cleaning system using oxidizing agent produced from the wastewater
摘要 본 발명은 폐수로부터 생산된 산화제를 이용한 습식 가스 세정 시스템에 관한 것으로, 그 목적은 질소산화물을 포함하는 배가스에 포함된 오염물질을 습식 세정하기 위해 암모니아를 포함하는 폐수로부터 산화제 원료물질을 얻어 비염소계 산화제인 과황산염을 자체 생산함으로써 저렴한 비용으로 배가스 중의 질소산화물을 산화시킨 후 습식으로 제거하여 안전하고 친환경적으로 제거하는 습식 가스 세정 시스템을 제공하는 데 있다. 본 발명의 구성은질소산화물을 포함하는 배가스에 과황산염을 포함하는 세정액을 기액 접촉시켜 질소산화물을 산화시킨 후 습식세정하는 흡수탑(1)과; 저장된 과황산염을 포함하는 세정액을 흡수탑에 공급하는 세정액 탱크(2)와; 암모니아를 함유한 폐수 또는 산업부산물로부터 암모니아 가스를 탈기 후 황산용액 투입 및 전기분해 과정을 포함하여 과황산염을 생산 후 세정액 탱크에 공급하는 과황산염생산수단(3)과; 상기 흡수탑에서 배출된 폐수를 정화 후 배출하는 폐수 처리수단(4);을 포함하여 구성한 폐수로부터 생산된 산화제를 이용한 습식 가스 세정 시스템을 발명의 특징으로 한다.
申请公布号 KR101638971(B1) 申请公布日期 2016.07.13
申请号 KR20140174661 申请日期 2014.12.08
申请人 (주) 테크윈 发明人 김태우;정도원;장성환;이창복;한성철;김정식;정붕익
分类号 B01D47/06;B01D53/14;B01D53/56;B01D53/78 主分类号 B01D47/06
代理机构 代理人
主权项
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