| 发明名称 | 防污层、防污性基材、显示装置和输入装置 | ||
| 摘要 | 一种防污性基材，所述防污性基材具备具有表面的基材和设置于基材表面上的防污层。防污层含有在末端以外的部分具有酯键的第1化合物和具有环状烃基的第2化合物中的至少一方。防污层表面的油酸的前进接触角为15°以下，防污层表面的油酸的后退接触角为10°以下。 | ||
| 申请公布号 | CN104114366B | 申请公布日期 | 2016.07.13 |
| 申请号 | CN201280070431.4 | 申请日期 | 2012.09.10 |
| 申请人 | 迪睿合电子材料有限公司 | 发明人 | 岩田亮介;水野干久 |
| 分类号 | B32B27/30(2006.01)I;B32B27/36(2006.01)I;C09D5/16(2006.01)I;C09D7/12(2006.01)I;C09D201/00(2006.01)I;G02B1/18(2015.01)I | 主分类号 | B32B27/30(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 童春媛;李炳爱 |
| 主权项 | 一种防污性基材，所述防污性基材具备：具有表面的基材，和设置于所述基材表面上的防污层，其中，所述防污层至少含有：在末端以外的部分具有酯键的第1化合物，所述第1化合物吸附于所述基材表面，所述防污层表面的油酸的前进接触角为15°以下，所述防污层表面的油酸的后退接触角为10°以下，所述第1化合物是分子内具有下列式(1)或式(2)表示的结构的化合物：<img file="dest_path_image001.GIF" wi="251" he="68" />式中，R<sub>1</sub>为含有C、N、S、O、Si、P或Ti的基团，R<sub>2</sub>为碳原子数为2个以上的基团，<img file="dest_path_image002.GIF" wi="282" he="70" />式中，R<sub>1</sub>、R<sub>2</sub>各自独立地为含有C、N、S、O、Si、P或Ti的基团；并且，所述第1化合物是聚合物。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||