发明名称 一种HDI外层线路负片加工方法
摘要 本发明属于PCB的加工技术领域,具体公开了一种HDI外层线路负片的加工方法。包括:整板电镀、磨板、贴膜、曝光、显影、蚀刻、退膜,本发明提供的HDI外层线路采用负片加工方法,能减少生产工序,节省生产成本,节约生产时间及利于环境保护。
申请公布号 CN103260361B 申请公布日期 2016.07.06
申请号 CN201310177988.4 申请日期 2013.05.14
申请人 金悦通电子(翁源)有限公司 发明人 胡俊
分类号 H05K3/46(2006.01)I;H05K3/06(2006.01)I 主分类号 H05K3/46(2006.01)I
代理机构 广州三环专利代理有限公司 44202 代理人 张帅
主权项 一种HDI外层线路负片加工方法,其特征在于:加工步骤如下:1)、整板电镀:将孔铜与面铜一次性电镀;2)、磨板:去除铜表面的油污及粗化铜表面,增强干磨与铜面的结合力;3)、贴膜:在加热加压的条件下,使干膜结合在经过洁净、粗化覆铜箔板上;4)、曝光:干膜抗蚀剂经紫外线照射后发生交联聚合反应,受光照部分成膜硬化而不被显影液所影响;5)、显影:将干膜上未经紫外线辐射的部分用一定浓度的Na<sub>2</sub>CO<sub>3</sub>溶液溶解,经过紫外线辐射而发生聚合反应的部分保留;6)、蚀刻:将未曝光已露铜部分的铜层蚀刻掉;7)、退膜:通过强碱溶液与曝过光的干膜作用,将图形上的膜退去,剩下有图形的铜板。
地址 512627 广东省韶关市翁源县翁城镇产业转移工业园