| 摘要 |
본 발명은 배가스에 포함된 유해물질을 제거하기 위한 플라즈마가 형성되는 플라즈마 반응챔버, 상기 플라즈마 반응챔버의 내부에 설치되는 제1전극부, 및 상기 제1전극부로부터 이격되게 상기 플라즈마 반응챔버의 내부에 설치되는 제2전극부를 포함하고, 상기 제1전극부가 상기 제2전극부로부터 이격되게 설치되는 복수개의 분할전극, 및 상기 분할전극들을 결합시키는 결합부재를 포함하는 분할전극을 이용한 배가스 처리용 플라즈마 반응장치 및 배가스 탈황탈질장치에 관한 것으로, 본 발명에 따르면, 전극부들 간에 이격 거리가 변동됨에 따라 스파크가 발생하는 것을 방지함으로써, 배가스로부터 유해물질을 제거하기 위한 플라즈마를 안정적으로 형성할 수 있을 뿐만 아니라 유해물질에 대한 처리효율을 향상시킬 수 있다. |
