一种用于光刻设备的自参考干涉对准信号处理系统

摘要

本发明提出一种用于光刻设备的自参考干涉对准信号处理系统，包括：激光光源模块，用于提供照明光束；光学模块，用于将来自标记衍射的光束进行光学处理，形成衍射光学信号；电子采集模块，用于将所述光学信号进行处理，获得光强信号；软件模块，用于对所述光强信号进行处理，并结合工件台位置数据，获得对准位置，消除光学噪声；其特征在于，所述电子采集模块中或者所述软件模块还包括一归一化处理单元。本发明综合利用两个光学通道中的光强信号，通过对对准信号进行归一化，提高对准信号的质量。消除或降低了照明光源的光强波动对信号的影响，提高了对准信号的质量。

主权项

一种用于光刻设备的自参考干涉对准信号处理系统，包括：激光光源模块，用于提供照明光束；光学模块，用于将来自标记衍射的光束进行光学处理，形成衍射光学信号；电子采集模块，用于将所述光学信号进行处理，获得光强信号；软件模块，用于对所述光强信号进行处理，并结合工件台位置数据，获得对准位置，消除光学噪声；其特征在于，所述电子采集模块中或者所述软件模块还包括一归一化处理单元，所述归一化处理单元的处理公式为：式中，为归一化后的对准信号，为只包含高级光通道的光强信号，为包含零级光和高级光通道的光强信号；；；其中，为对准匀速扫描速度，为扫描时间，为标记初始位置，为标记的周期，为衍射的级次，N为进入光学通道的总衍射级次，可通过照明波长、光学系统的数值孔径和光阑调整；为反射光中零级光光强，和为零级光在两个支路上的光强比例系数，且，；为第m级衍射光的光强，和为第m级衍射光A_1通道和A_2通道的光强比例系数，且和。