发明名称 |
一种显示装置、彩膜基板及其制作方法 |
摘要 |
本发明涉及显示技术领域,特别涉及一种显示装置、彩膜基板及其制作方法。该彩膜基板的制作方法,包括:在第一基板上沿纵向沉积若干层彩色光阻层;切割所述彩色光阻层,得到若干个预设厚度的彩色子光阻层;将所述彩色子光阻层设于有机薄膜上,将设置在有机薄膜上的彩色子光阻层与间隔设有黑矩阵图形的第二基板进行贴合固化;去除上述的有机薄膜,进而形成彩膜基板。本发明提供的显示装置、彩膜基板及其制作方法,通过将设置在有机薄膜上的彩色子光阻层与设有黑矩阵图形的基板进行贴合固化,可形成无间距的彩色光阻层,最大程度降低对黑矩阵的宽度要求,并且有效消除由于角段差而引发的漏光问题。 |
申请公布号 |
CN103744223B |
申请公布日期 |
2016.07.06 |
申请号 |
CN201310717557.2 |
申请日期 |
2013.12.23 |
申请人 |
北京京东方光电科技有限公司 |
发明人 |
谢建云;车春城 |
分类号 |
G02F1/1335(2006.01)I;G02F1/1333(2006.01)I |
主分类号 |
G02F1/1335(2006.01)I |
代理机构 |
北京路浩知识产权代理有限公司 11002 |
代理人 |
李迪 |
主权项 |
一种彩膜基板的制作方法,其特征在于,包括:在第一基板上沿纵向沉积若干层彩色光阻层;切割所述彩色光阻层,得到若干个预设厚度的彩色子光阻层;将所述彩色子光阻层设于有机薄膜上,将设置在有机薄膜上的彩色子光阻层与间隔设有黑矩阵图形的第二基板进行贴合固化;去除上述的有机薄膜,进而形成彩膜基板。 |
地址 |
100176 北京市经济技术开发区西环中路8号 |