| 摘要 |
【課題】複数の処理室を有する処理装置の生産性を向上する。【解決手段】基板を処理可能な複数の処理室であって、複数の処理室のそれぞれに処理ガスを供給可能な処理ガス供給部と、複数の処理室（チャンバ）のそれぞれにパージガスを供給可能なパージガス供給部１５００と、複数の処理室のいずれか又は全てを排気可能な排気部１６００とを持つ。複数の処理室の内、一つの処理室へ基板を搬送し、該一つの処理室以外の少なくとも一つの他の処理室へ基板２００を搬送しない場合に、一つの処理室への前記処理ガスの供給と並行して他の処理室にパージガスを供給すると共に、一つの処理室と他の処理室を排気するように処理ガス供給部とパージガス供給部１５００と排気部１６００とを制御する。これにより、両方の処理室で処理を行う場合と同等の品質を確保しつつ、処理ガスの無駄な消費をなくす。【選択図】図２ |
