| 发明名称 | 半导体基板的处理液、处理方法、使用这些的半导体基板产品的制造方法 | ||
| 摘要 | 一种半导体基板的处理液，其是自具有含有锗(Ge)的含Ge层的半导体基板将所述半导体基板上侧的有机物去除、或者对其表面进行清洗的处理液，其中，包含使处理液成为pH5～16的范围的药液成分、及用于对含Ge层进行防蚀的防蚀成分。 | ||
| 申请公布号 | CN105745739A | 申请公布日期 | 2016.07.06 |
| 申请号 | CN201480062820.1 | 申请日期 | 2014.11.14 |
| 申请人 | 富士胶片株式会社 | 发明人 | 上村哲也;杉岛泰雄;水谷笃史 |
| 分类号 | H01L21/304(2006.01)I;G03F7/32(2006.01)I;G03F7/42(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/304(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 葛凡 |
| 主权项 | 一种半导体基板的处理液，其是从具有含有锗(Ge)的含Ge层的半导体基板将该半导体基板上侧的有机物去除、或者对其表面进行清洗的处理液，其中，包含使处理液成为pH5～16的范围的药液成分、及用于对含Ge层进行防蚀的防蚀成分。 | ||
| 地址 | 日本国东京都 | ||