配向装置、配向系统及配向方法

摘要

本发明提出了一种配向装置、配向系统及配向方法，采用空间光调制器的无掩模扫描投影曝光，能够避免掩模与基板之间产生摩擦，通过空间光调制器反射出多个不同角度的光线照射至基板上，能够在基板上实现同时在非扫描方向上多个互为反相的拼接，携带空间光调制器多个反相信息的不同入射角度的光线可同时照射到基底表面，形成不同的配向角度，即只需要一次扫描曝光，就可以完成配向膜配向，可以提高产率。

主权项

一种配向装置，其特征在于，包括：光源、空间光调制器及成像单元，所述光源发出的光线入射至所述空间光调制器，所述空间光调制器将入射光线反射成两种角度的出射光线，分别通过所述成像单元照射至基板上，所述两种角度的出射光线在基板上所成的像互为反相且在基板非扫描方向上进行拼接，使得一次扫描曝光即可完成基板两个方向的配向。